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小型旋轉管式爐可實現(xiàn)在氣氛保護的環(huán)境下對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。設備采用摩擦傳動，無需額外固定，爐管拆卸方便，便于取放樣品。

1200℃三溫區(qū)旋轉管式爐采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。如果您需要保持物料的單粒結構（如在干燥或煅燒物料時），旋轉管式爐是您的理想選擇。爐管持續(xù)不斷的旋轉運動和氣氛保護的結合應用將為您帶來理想的處理結果。

1200℃開啟式雙溫區(qū)旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。如果您需要保持物料的單粒結構（如在干燥或煅燒物料時），是您的Z佳選擇。爐管持續(xù)不斷的旋轉運動和氣氛保護的結合應用將為您帶來Z佳的處理結果。