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產(chǎn)品型號(hào)：CY-MSH325- II-DCRF-SS廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-11-16訪 問(wèn) 量：231產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | CYKY | 價(jià)格區(qū)間 | 30萬(wàn)-50萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標(biāo)源，例如，一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個(gè)射頻源用于涂覆非金屬材料。高真空磁控等離子濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆單層或多層薄膜，適用于各種材料，如合金、鐵電、半導(dǎo)體、陶瓷、電介質(zhì)、光學(xué)、聚四氟乙烯等。
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點(diǎn)：
1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡(jiǎn)便。
磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：
1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備
2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜
3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）
4. 教學(xué)演示——磁控濺射原理實(shí)驗(yàn)
高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格：
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH325- II-DCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 4KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ140mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm，高度500mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 頂開式 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測(cè)量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源500W,射頻電源500W | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
設(shè)備尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm | |
設(shè)備重量 | 350kg | |
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