1200℃低真空旋轉(zhuǎn)CVD氣相沉積系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為風(fēng)冷法蘭，摩擦傳動(dòng)，傾角（0-15°）任意可調(diào)。管式爐三個(gè)溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨(dú)立控溫，通過調(diào)節(jié)各個(gè)溫區(qū)的溫度，該管式爐可以在加熱區(qū)內(nèi)形成三段溫度梯度或是形成較長的恒溫區(qū)域。1200℃三路供氣低真空度旋轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)每個(gè)溫區(qū)均可編輯30段升降溫程序，同時(shí)有過熱和斷偶保護(hù)功能。爐管兩側(cè)法蘭配有數(shù)字式真空計(jì)和機(jī)械式壓力表，可以用來控制爐管內(nèi)的氣氛環(huán)境。

如果您需要保持物料的單粒結(jié)構(gòu)（如在干燥或煅燒物料時(shí)），旋轉(zhuǎn)管式爐是您的理想選擇。爐管持續(xù)不斷的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和氣氛保護(hù)的結(jié)合應(yīng)用能使得管內(nèi)物料攪拌混合獲得均勻受熱效果為您帶來理想的處理結(jié)果。 

該設(shè)備主要應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)椋悍勰┮苯?、陶瓷、耐火材料、鋰電正?fù)極材料、新能源等行業(yè)顆粒粉末燒成、煅燒，測定材料。 

1200℃低真空旋轉(zhuǎn)CVD氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：   

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