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產(chǎn)品型號：CY-PECVD-450T-SS廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2026-07-15訪 問 量：740產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細介紹
| 品牌 | CYKY |
|---|
半導體PECVD設(shè)備氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強型化學氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
PECVD應(yīng)用領(lǐng)域
1.微電子與半導體工業(yè)，介質(zhì)薄膜 低k介質(zhì) 多晶硅/非晶硅薄膜
2.光伏（太陽能電池）工業(yè)，氮化硅減反射鈍化膜 非晶硅/微晶硅薄膜太陽能電池
3.顯示技術(shù)（LCD/OLED），薄膜晶體管（TFT）陣列制造
4.光學領(lǐng)域，光學薄膜
PECVD優(yōu)點:
1.沉積溫度低
2. 薄膜質(zhì)量高
3. 良好的臺階覆蓋性和溝槽填充能力
4. 沉積速率較快
5. 廣泛的材料體系
| 產(chǎn)品型號 | CY-PECVD-450T-SS |
| 真空腔體 | 前開門式，φ300mm X 300mm 不銹鋼材質(zhì) 觀察窗：φ100mm 帶擋板 |
| 真空泵組 | 前級泵：旋片泵 抽速1.1L/s 次級泵：渦輪分子泵 抽速600L/s |
| 極限真空度 | 10-6Pa 三十分鐘內(nèi)可達到 10-4Pa |
| 沉積真空 | 0.133~133Pa，可根據(jù)工藝調(diào)整 |
| 射頻電源 | 13.56MHz，500W，自動匹配 |
| 流量控制 | 質(zhì)量流量計，默認 Ar氣 0~200sccm |
| 整機尺寸 | 1100mm x 800mm x1100mm |
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