產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設(shè)備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質(zhì)的膜層
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
粉體磁控濺射包覆機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn),以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜,能快速出料。
小型臺(tái)式單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
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