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分體式高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現(xiàn)高質量、均勻的薄膜沉積。
本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調，可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設備結構緊湊功能*便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。
往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀是一款緊湊高效的實驗室級鍍膜設備，采用磁控濺射技術，可在真空環(huán)境下實現(xiàn)金屬、合金、氧化物等多種材料的均勻鍍膜。桌面型單靶磁控鍍膜儀小型化設計適合科研院所、高校實驗室及企業(yè)研發(fā)中心，滿足小樣品鍍膜需求，兼顧高精度、操作便捷和低成本的特點
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