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磁控濺射鍍膜儀帶振動(dòng)樣品臺(tái)為我公司研發(fā)的配有三個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等

臺(tái)式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2“射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積，實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置

臺(tái)式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本型號(hào)配備射頻電源，尤其適合非金屬或其他非導(dǎo)電材料鍍膜

?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計(jì)，?磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）的樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。

磁控濺射鍍膜儀主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級(jí)后，可達(dá)到5室結(jié)構(gòu)進(jìn)樣室、三個(gè)獨(dú)立的濺射室、出樣室；增加射頻電源，提供制備介質(zhì)膜的功能，并能實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜。

單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。