產(chǎn)品中心
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產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì),在保留高真空不銹鋼腔體的同時(shí),精簡了其他機(jī)構(gòu),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源一個(gè)射頻電源,直流靶可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射,射頻電源可用于各種非金屬和金屬氧化物等的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用全進(jìn)口真空泵,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。
大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺(tái)式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ,帶有一個(gè)水冷2英寸靶頭,冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆直徑達(dá)4英寸的所有金屬薄膜, 包括Zn、Al、Ti和碳光膜,價(jià)格合理。包含一個(gè)Al 目標(biāo)以供立即使用。
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